Fraunhofer IISB

Das Fraunhofer-Institut für Integrierte Schaltungen, Bereich Bauelementetechnologie (IISB), entwickelt gemeinsam mit Industriepartnern neue Halbleiter-Fertigungsgeräte und -verfahren sowie Simulationswerkzeuge zur Beschreibung moderner mikroelektronischer Fertigungsschritte. Darüber hinaus bietet das Institut mit seinem Kompetenzzentrum für Leistungselektronik breite Unterstützung auf dem Gebiet der Leistungselektronik - von der Entwicklung leistungselektronischer Halbleiterbauelemente bis hin zum Entwurf kompletter Schaltungen und Systeme.

Anwendungsnahe Forschung, Entwicklung und Beratung auf den Gebieten:

• Halbleiter-Prozeßanalytik
• Kristallzüchtung
• Prozeß- und Schaltungs-Simulation
• Schaltungen und Systeme für die Leistungselektronik
• Mechatronische Systemintegration
• Thermische Systemanalyse
• Schulungen, Seminare
• Halbleiter-Technologieentwicklung
• Halbleiter-Fertigungsgeräte und Materialien
• Leistungshalbleiterbauelemente

Das Institut ist in fünf Arbeitsgebiete gegliedert:

Im Arbeitsgebiet Technologie werden neue technologische Prozesse und Herstellungsmethoden für die VLSI- und ULSI-Technologie sowie für moderne Leistungshalbleiterbauelemente entwickelt.

Das Tätigkeitsfeld der Abteilung Leistungselektronische Systeme umfaßt die Schaltungs- und Systementwicklung für alle Felder der Leistungselektronik, mit Schwerpunkten in den Bereichen Industrie- und Automobilelektronik. In enger Zusammenarbeit mit industriellen Auftraggebern werden hier auch Prototypen und Demonstratoren entwickelt.

Das Arbeitsgebiet Technologiesimulation befaßt sich mit der Entwicklung leistungsfähiger Simulationsprogramme zur Optimierung von Einzelprozessen und Prozeßfolgen in der Halbleitertechnologie.

Das Arbeitsgebiet Halbleiter-Fertigungsgeräte und- Materialien kooperiert mit Firmen bei der Entwicklung und Verbesserung neuer Fertigungsgeräte, neuer Materialien sowie der zugehörigen Prozesse.

Im Arbeitsgebiet Kristallzüchtung werden Firmen bei der Entwicklung und Optimierung von Anlagen und Prozessen zur Herstellung von Kristallen für die Mikroelektronik und für die Mikrolithographie unterstützt. Weitere Forschungsschwerpunkte bilden die Entwicklung, Anwendung und Lizenzvergabe von Simulationsprogrammen zur Berechnung von Hochtemperaturanlagen und –prozessen sowie die Entwicklung und Anwendung von Meßtechniken zur Bestimmung des Stoff- und Wärmetransportes in Kristallzüchtungsprozessen.